高純石墨介紹

 高純石墨是用于制作半導體技能設備的各種元件，它是以一般的結構石墨在石墨化進程頂用活性氣體凈化而成的。已凈化的石墨須在防止制品污染的條件下進行機械加工。這種石墨（凈化后）的灰分不跨越1×10%，鐵、鋁、鎂的含量不該跨越3×105%，銅、硼、錳的含量不該跨越1×10%。上面這些約束雜質含量都符合純真級。在這些石墨里，硅鈣的含量不大于3×10(質量%）。工業上還有純度更高的結構石墨。用這種石墨制成的制品經過機械加工之后再進行彌補凈化，以削減其外表沾染的幾率。約束雜質——鐵、鋁、鎂、硼、銅、錳的含量不許跨越1×10%，硅的含量不許跨越3×10-%，鈦、鎳、鉻及其他元素的含量應少于1x10%。這些石墨的灰分在0~10*%。各種商標特純石墨的物理力學性能。
    注：TM石墨的熱處理溫度為2700℃，其他各種商標石墨的熱處理溫度為2800~3000℃。有保護層的特純高強石墨是由一般細結構石墨經過凈化并在真空中脫氣，然后用熱解炭進行外表增密處理而成的。其制品（加熱器、圓盤、石墨皿等)可用于以氣體外延成長法制取硅薄膜。